能源问题正日益成为世界性问题，我国在太阳能光伏产业的核心技术已领先于世界水平，而用于太阳能的主要材料——多晶硅，它的清洗洁净程度直接影响到太阳能电池的成品率和性能。用超声波清洗的目的主要是清除多晶硅表面的沾污，如微粒，有机物，无机金属离子、氧化层等杂质。多晶硅表面吸附杂质的主要原因是，多晶硅表面原子垂直向上的化学键被破坏成为悬空键，在多晶硅表面形成自由力场，极易吸附各种杂质。这些杂质和多晶硅之间迅速形成化学吸附，难以去除。在生产多晶硅的生产工艺过程中，其中的一个重要环节，是采用超声波清洗应用技术。
工具/原料
1
一台VGT15204FST多晶硅超声波清洗机
2
多晶硅片
3
清洗剂
方法/步骤
2
光刻后清洗：除去光刻胶。
3
氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所胡的沾污物。
4
抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。
5
外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。
6
合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。
注意事项
1
放物品清洗的过程中要注意
2
清洗好物品之后，要确定电源是否已关闭。