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优质的硅片清洗剂应具备哪些条件?

硅片清洗剂广泛应用于光伏,电子等行业硅片清洗;由于硅片在运输过程中会有所污染,表面洁净度不是很高,对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大的影响,所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。
工具/原料
1

硅片清洗剂

2

清洗条件

具备条件
1

易溶于水,且在短时间内即形成均匀稳定的洗涤液,均匀的溶于水中,便于清洗。如果是在一定温度下才能溶解的,应尽量在接近常温时使用。

2

有适中的泡沫,虽然泡沫具有携污作用,但是过多的泡沫也会不利,因为金属清洗剂一般都采用机械化快速洗涤,在一定时间内要完成洗涤的全过程。

3

便于快速清洗,无论是浴中清洗工艺,还是冲洗、擦洗工艺,为提高洗涤效率,在短时间内应能完成洗涤的全过程。所以,应能快速润湿、渗透,适合于强力搅拌或高压水喷洗等工艺,漂洗方便。

4

防止污垢再沉积能力强:主要是乳化效果、分散能力要强。已经从金属表面解脱的污垢粒子应稳定地分散在洗涤液中,或增溶在胶束中,能阻止污垢返回金属表面。

5

对金属无腐蚀、无损伤:水基金属清洗剂在一般情况下都能满足这方面的要求。一旦使用可能腐蚀金属表面或清洗后可能侵蚀金属表面的成分时,应在清洗剂或洗涤工艺中采用补救措施,如加入缓蚀剂、防锈剂等。

6

对人体无害,对环境无污染,使用安全:配方中合理配伍,精心选择,满足安全性要求。

7

原料易得,价格便宜,操作费用低。

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注意事项

慎重选择硅片清洗剂。

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