一、宏观分析1. 试样的制备试样需磨平，热蚀前试样表面的油污需清洗干净。侵蚀剂为1：1硝酸水溶液，加热温度约50～70℃，时间约5分钟。观察面上如有一层黑色的氧化膜，可用稀盐酸溶液擦掉。2.常见的缺陷缩孔、疏松、气孔、偏析、外来非金属和金属夹杂、铸造粗晶、冷隔。二、微观分析1. 试样的制备试样在磨光前可用锉刀将样品锉平并倒角。然后逐步经400﹟、600﹟、800﹟、1000﹟、03﹟、05﹟SiC水砂纸及金相砂纸磨平, 最理想是砂纸上涂抹汽油起润滑作用，在换用下一道砂纸时应清洁试样,可以避免将上道较粗的砂粒带到细纱纸上,同时将原来磨制的方向改变90°。
工具/原料
1
砂纸
2
抛光丝绒
3
抛光机
4
金刚石研磨膏
方法/步骤
1
抛光粉常用的有以下几种：ⅰ） 氧化铝 硬度高，切削力强，对质地教硬的两相合金是一种理想的抛光磨料。ⅱ） 氧化铬 硬度低于氧化铝其切削能力比氧化铝差，但对纯铜、单相铜合金，如铍青铜、铜钛等广泛使用。ⅲ）氧化镁 硬于氧化铝、氧化铬，其颗粒具有尖锐磨削刀口，作铜及铜合金的精抛光用。软软的铜合金，常采用浸蚀抛光的方法消除干扰变形层和抛光条纹。粗抛：氧化铬或W3～W5金刚石研磨膏精抛：氧化镁或W0.5～W2.5金刚石研磨膏
2
化学抛光剂：①50ml正磷酸+28ml冰醋酸+22ml硝酸②3份硝酸+1份盐酸+1份磷酸+5份冰醋酸③10g三氯化铁+8ml盐酸+50ml酒精+50ml水①号试剂浸蚀时间约5～9秒，若晶粒不清晰，可在③号试剂中浸蚀2～3秒，可获得清晰组织。
3
电解抛光剂：① 纯铜：蒸馏水 175ml，磷酸 825ml电压：1～1.6V ，时间：10～40分，阴极：Cu② α、α+β、Cu-Fe、Cu-Co：蒸馏水 600ml，磷酸 400ml电压：1～2V，时间：1～15分，阴极：纯铜或不锈钢③ 黄铜、青铜：蒸馏水 300ml，磷酸 700ml电压：1.5～18V，时间：5～18分,阴极：纯铜
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