应知应会的电脑硬件核心知识：[55]芯片制作

显示芯片的制造工艺与 CPU一样，也是用微米来衡量其加工精度的。制造工艺的提高，意味着显示芯片的体积将更小、集成度更高，可以容纳更多的晶体管，性能会更加强大，功耗也会降低。和中央处理器一样，显示卡的核心芯片，也是在硅晶片上制成的。采用更高的制造工艺，对于显示核心频率和显示卡集成度的提高，都是至关重要的。而且重要的是，制程工艺的提高，可以有效的降低显卡芯片的生产成本。目前的显示芯片制造商中，NVIDIA公司已全面采用了 0.13 微米的制造工艺，就是其 FX5900 显示核心之所以能集成一亿两千五百万个晶体管的根本原因。而 ATI公司主要还是在使用 0.15 微米的制造工艺，比如其高端的镭 9800XT 和镭 9800 Pro 显卡，部分产品采用更先进的 0.13微米制造工艺，比如其镭 9600 显卡。微电子技术的发展与进步，主要是靠工艺技术的不断改进，使得器件的特征尺寸不断缩小，从而集成度不断提高，功耗降低，器件性能得到提高。芯片制造工艺在1995 年以后，从 0.5 微米、0.35 微米、0.25 微米、0.18 微米、0.15 微米，一直发展到当前的0.13微米。而更为先进的 0.09 微米制造工艺的显卡产品，也已在显卡厂商的发展规划中，在 2004 年就会推出相应的产品。制造工艺的微米，是指 IC 内电路与电路之间的距离。制造工艺的趋势是向密集度愈高的方向发展。密度愈高的 IC电路设计，意味着在同样大小面积的 IC 中，可以拥有密度更高、功能更复杂的电路设计。而0.13微米工艺的好处非常明显，不但可以得到转换速度更快的晶体管，还能产出更小的芯片。更小的晶体管，能减少耗电量及产品体积，效能也相对提高，而且也降低功耗和发热量。采用更高制造工艺的显示芯片，并不代表其具有更高的性能，因为显示芯片设计思路也各不同相同，并不能单纯以制造工艺来衡量其性能。最明显的就是NVDIVA 的 GeForce FX5950 和 ATI 的 Readen 9800XT、9800XT 采用 0.15 微米制造工艺，而FX5950 采用更为先进的 0.13 微米制造工艺，但在性能表现上，Readen 9800XT 则要略胜一筹。