光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。那么，你知道光刻胶的作用是什么？
方法/步骤
1
在光的照射下溶解速率发生变化，利用曝光区与非曝光区的溶解速率差来实现图形的转移。
2
溶解抑制/溶解促进共同作用。
3
将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层。
4
在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。
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